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无机非金属材料包括种类繁多的样品类型，下面分类介绍其ICP光谱分析方法。
表1 晶体材料分析方法
样品名称 | 试样处理 | 仪 器 | 分析条件 | 测定方法及试样组成 | ||
功率 /kW | 冷却气 /L·min-1 | 载气 | ||||
光盘薄膜 | 酸溶解 | ARL-3580 | 1.25 | 12 | 1.0L/min | 归一法，不称样重，Se72.17%，Te3.36%，Sn24.37% |
CoCr薄膜及Sm，Co，Cu，Zr，Fe合金 | HNO3-HCl溶样 | Jarrell-Ash 800多道光谱仪 | 1.1 | 18 | 用亚微量样品不准确称量法，Co 84.8%，Cr 15.2%，Sm 26.3%，Co 49.7%，Cu 5.87%，Zr 2.37%，Fe 14.8% | |
钇镓石榴 石晶体 | HNO3-HCl溶解 | Jarrell-Ash 800 | 1.1 | 16 | 0.3L/min | Sc 0.6（μg/ml，下同） Tb 1.0 Nd 5.0 Eu 4.0 Cr 0.6 |
硼酸铝钇 钕晶体 | NaOH高温熔融，HCl浸取 | WP1-G摄谱仪 | 0.21MPa | Nd检出限为0.4μg/ml，NCl 0.5%~2.4% Lu 0.75%~4.0% | ||
铝酸钇晶体 | 盐酸溶解 | WPS-1 摄谱仪 | 0.78L/min | Ho 0.75%~4.0%，Er 0.75%~4.0%， Ce 0.4%~2.0% | ||
硝酸锶晶体 | 去离子水及硝酸溶样 | IRIS/AP | 1.15 | 15 | 0.5L/min | Ag，Ca，Ce，Fe，Cu，La，Mg，Mn，Na，Zn的检出限0.1~16ng/ml回收率90%~116% |
钒酸钙晶体 | 硝酸溶解 | TJA IRIS/AP | 1.15 | 15 | 0.22/MPa | Nd，Yb，Ge的检出限为0.0002~0.018μg/ml |
KTiOPO4 晶体及KGd （WO4）2晶体 | 硝酸及氢氟酸溶样 | Jobin Yvon，JY38 | 1.0 | 15 | 0.5L/min | 检出限/% Nd 2.4×10-3 Ho 7.0×10-4 Eu 2.3×10-3 Er 3.2×10-4 Yb 2.0×10-4 |
表2 陶瓷、玻璃材料的分析方法
样品名称 | 样品处理 | 光谱仪 | 分析条件 | 主要结果 | ||
功率 /kW | 冷却气 /L·min-1 | 载气 | ||||
陶瓷原料 （硅铝酸盐） | HClo4-HNO3-HF分解或Na2B4O7-NaKCO3熔融 | Pekin-Elmer 1000 | 1.0 | 15 | — |
测定磷的检出限为0.2mg/g |
古代陶瓷 | 碱熔（Li2O3-H3BO4）酸溶HF-HNO3-HClO4 | Jarrell-Ash- 9000 | 1.10 | 15 | 0.5L/min | 多元素同时分析的测定限（μg/g）：45（Si），32（Al），65（Fe），23（Ca），50（Mg），2（Mn），2（Ti），64（P），3.5（Zr），2.5（Ba），3.5（Co），9.5（Ni），3.5（V），2.5（Sr），21（Pb），6（Zn），5（Cr），20（Ga） |
氧化铝粉 | 盐酸高压溶样 | JY 38S | 1.5 | 14 | — | Fe，Si，Ca，Ti，V的检出限为0..34~52ng/ml |
保温材料 （岩棉，玻璃棉，复合硅铝酸镁） | HF-HCl4-HCl溶样 | Vista CCD 光谱仪 | 1.2 | 15 | 0.7L/min | 检出限/μg·ml-1 Na2O 0.005， K2O 0.002 |
荧光材料 （SrAl2O4-Eu及CaAl2O4-Eu） | 盐酸高压溶样 | JY-238 | 1.0 | 15 | 0.8L/min | 样品组成/% 30.9（Al），24.4（Ca） 0.38（Sr），0.58（Nd）， 0.67（Dy），1.23（Eu） |
玻璃粉 | HCl-HF 高压溶样 | ARL品3580 | 1.1 | 12 | 1.0L/min | 样品组成/% 16.3（B2O2），3.73（K2O），0.12（Na2O），余量为SiO2 |
锆基陶瓷材料 | HCl-HF-H2SO4溶样 | JY 38VHR | 13 | 0.3L/min | 样品组成/% 87（ZrO2），12（CeO2）， 1（TiO2） | |
工业硅 | HNO3-HF溶样硫酸处理 | PE Plasma Ⅱ | 1.2 | 14 | 1.0L/min | 典型分析结果/% 0.73（Fe），0.45（Al），0.60（Ca） |
表3 氮化物和碳化物分析方法
试样名称 | 样品处理 | 光谱仪 | 分析条件 | 主要结果 | ||
功率 /kW | 冷却气 /L·min-1 | 载气 | ||||
高纯氮化硅 | 硝酸钠及碳酸钠熔融（1000℃），氢氧化镧共沉淀杂质分离 | ICAP-500 | 检出限/μg·g-1 0.6（Al，Cu，Ni）0.1（Ba，Ca，Mg，Mn，Sr）0.4（Cr，Fe，Zn）0.2（Ti） | |||
高纯硅，氮化硅，碳化硅 | 微柱螯合树脂分离 | 日立P-5200及JY-48P光谱仪 | 1.2 | 16 | 0.4 | 测定Al，Ba，Ca，Ni，Pb，U，Th等21个微量元素 |
氮化铝及氮化硼烧结体 | 高压硫酸或盐酸分解样品 | ICAP-1000S 型光谱仪 | 可测定Al，Ca，Cr，Cu，Fe，Ga，K，Mg，Na，Si，Ti，V，Y和Zr：检出限多数<μg/g（Si，K，Na，Ga除外） | |||
氮化硅 | 氟化作用电热蒸发法浆液进样 | 检出限/μg·g-1 0.11（Al），0.09（Ti） | ||||
碳化钽及氮化钽 | 用氢氟酸及过氧化氢高压溶样 | 精工SPS1200A 光谱仪 | 典型分析结果/μg·g-1 TaC：2.74（Ca），37.5（Co）， 5.5（Cr），71.8（Fe），<0.028（Mg），0.9（Mn），1210（Nb），6.59（Ti），604（W），4.27（Zr） TaN：2.9（Ca），<1.5（Co），3.27（Cr），76（Fe），0.67（Mg），47.9（Mn），45.3（Nb），6.74（Ti），161（W），19.2（Zr） | |||
1 晶体材料
晶体材料包括激光晶体材料和光盘薄材料。其分析方法要点见表1。
2 玻璃、陶瓷及其原料
陶瓷、玻璃、耐火材料及其原料的分析方法见表2。
3 碳化物和氮化物材料
碳化物及氮化物的分析方法及条件见表3。
